Исследование разрядов низкого давления для разработки оборудования и технологи импульсного электронно-лучевого испарения и ионно-плазменного осаждения наноструктурных покрытий
Получение различных покрытий электронно-лучевым испарением в вакууме является одним из наиболее распространенных методов. Однако использование стационарного нагрева при испарении затрудняет получение покрытий из многокомпонентных материалов, а также химических соединений, склонных к термической диссоциации. Перспективным для осаждения покрытий из таких материалов является импульсное испарение пучком, генерируемым в высоковольтном тлеющем разряде с холодным катодом, с активацией парогазового потока в зоне испарения с помощью разряда низкого давления.